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一種環形屏積分球光源的輻照均勻度研究

一種環形屏積分球光源的輻照均勻度研究

    引言
    積分球作為一種測量發光體光學參數的高效率儀器,常用于測量光譜強度與功率、光通量、散射體分布、顏色溫度、電學特性等參數。積分球光源主要用途是可以作為參考源校準各種光度輻射儀器,其照度均勻性研究對于光學遙感儀器的研制與標定、均勻光源的推廣使用等方面具有重要的參考價值。其次,積分球均勻光源可以對CCD相機、CCS太陽光準直系統、圖象陣列及實驗室光學成像系統進行校準,廣泛應用于生物制藥、醫學成像等領域。此外,也可以應用在航空航天遙感探測儀器的研制與標定方面。
    有關積分球結構、材料涂層、光源位置、出口面距離等因素對輻照度的影響,有很多學者做了相關研究。Chen Yang等人對一種十二面體積分球光源結構進行了研究,并得到了不均勻性小于2%的均勻區域。S.Park等人對一種六端口高均勻度的積分球光源結構進行了研究,并驗證此勻光系統相關的空間不匹配誤差小于1.4%。Belov等人對帶內篩的、探測器散熱器外置的積分球結構進行了研究。Bin Liu等人對于積分球體內部結構和噴涂材料性能進行了研究,結果表明積分球結構和涂層反射系數共同決定數據的準確性。國內,劉洪興等人對積分球光源位置及照明條件變化進行了研究,實測驗證了其輻照度面均勻性及朗伯特性。張貴彥等人對積分球出口面距離對輻照度的影響進行了研究,得到了適當距離處的均勻照度場。
    常規積分球由于受其自身結構、擋板位置、光源類型等因素影響,導致接收器出射光源的照度均勻性不夠理想。本文提出了一種具有環形遮擋屏的積分球光源結構,并對積分球光源類型、擋板位置、開口大小等因素對光源均勻性的影響進行了研究。選用發光二極管(LED)作為光源,由于發光二極管(LED)具有發光效率高、耗量小、壽命長、成本低、光色純正、易于控制安裝等優點,因此選用其作為光源。在設計過程中,為有效增加光線在積分球內部的漫反射次數,環形擋屏后面的LED光源進行了等距離放置。為進一步提高光源的均勻性,基于蒙特卡洛算法對所提出的積分球結構、光源類型以及光源個數進行了優化。

    1 結構模型

    如圖1所示,設計了一個具有環形遮擋屏的積分球光度儀模型,其主要組成部分包括內壁均勻噴涂了漫反射物質的球形腔體、環形遮擋屏、等距離放置的非均勻LED光源、均勻光出光口以及接收裝置。該環形屏積分球結構中,LED光源可以選取朗伯特類型、準直光源類型;環形擋板的位置可以在積分球剖切面方向改動,且環形擋板的開口半徑可以調整;積分球開口大小也可有不同選擇。LED光源朝向積分球左半球內壁方向均勻發散光線。

圖1 環形屏積分球光源結構示意圖
    2 蒙特卡洛算法
    蒙特卡洛算法(Monte Carlo Method)是一種以概率統計為指導思想的隨機采樣模擬方法。在現實的眾多領域中,用求解離散方程的辦法來模擬測量非常困難,所以通過計算機對大量樣本進行隨機抽樣、數字模擬,來達成因復雜的數學運算而難以實現的目標。對于理想點光源而言,假設它往積分球模型中的任意方向發散的光線都是均勻分布的,且每條光線輻照能量相等。隨機抽取一條光線,設定其方向向量為(x0,y0,z0),天頂角為θ,圓周角為。選取最簡單也是最基本的矩形分布,即(0,1)上均勻分布的隨機數r1,r2

    則對應的抽樣光線方向向量為

    如圖2所示是光線的蒙特卡洛光線追跡過程。首先要建立發光體光線幾何面的參數方程f(α,β,γ),通過構建蒙特卡洛算法,取(0,1)區間上均勻分布的隨機數,在幾何面上采樣發光點,得到隨機采樣的出射光線。聯立抽樣光線所在的直線方程與幾何面參數方程,求得與積分球面的入射點Q0并進行取舍判斷。若抵達接收器的光線數量達到了N條,則光線追跡結束。f(α,β,γ)決定了光源的特性,對于朗伯特光源,可以根據抽樣光線方向向量(x0,y0,z0)以及幾何面法線向量的余弦得到發光強度,如(3)式及(4)式所示;對于其他類型的光源,則根據其出射特性調整f(α,β,γ)的分布。

圖2光線追跡流程圖


    3 評估參數

    為得到趨于理想的均勻光,選取合適的參數對照度均勻度進行評估極為重要。通常U0、U1、U2以及Bias這4個指標被用來評估照度的均勻度,如(5)式所示:


    式中:Emax是照度的最大值;Emin是照度的最小值;Eav是照度的平均值;U0表示照度均勻度的均差;U1U2表示照度均勻度的極差,這3個參數值越接近1,表示光線分布得越均勻;Bias表示輻照度的最大相對偏差,其值越大,表示光線分布越不均勻。


    4 結果及分析

    基于圖1所示的結構,對源類型、擋板位置、開口大小、光源數量等參數進行了優化,其他參數如表1所示。

表1 環形積分球參數表


參數

光源類型

理想光源

朗伯特光源

準直光源

積分球半徑/mm

1500

1500

1500

朗伯反射率/%

98

98

98

光源尺寸大小/mm

-

1.6×0.8×0.3

3×3.8×3.7

積分球開口半徑比/%

33.33

33.33

33.33

環形屏開口半徑比/%

50

50

50

    4.1 光源類型及擋板位置對輻照均勻度的影響
    如圖3中(a)所示為保持光源數量為4、遮擋屏開口比為50%時,環形遮擋屏在R五種位置的示意圖;如圖(b)所示是理想光源、朗伯特光源和準直光源3種不同類型光源在R1-R5五種擋板位置情況下的歸一化輻照均勻度折線統計圖,從中可以看出朗伯特光源的輻照均勻度可以超過0.96,而準直型光源的輻照均勻度在0.94左右波動,朗伯特光源較之準直光源輻照均勻度平均提高了2.32%;朗伯特光源的輻照均勻特性優于準直型光源,更為接近理想光源的輻照均勻度分布。因此,結合LED的實際結構與光照均勻性,積分球光源應優先選擇朗伯特光源。當擋板位置接近積分球邊緣(R1,R2)時,其對應的輻照均勻度略低于其他位置;而遠離邊緣一定距離后,擋板位置對輻照均勻度的影響較小。因此,擋板位置的選擇需要距離邊緣一定距離。


圖3 光源類型及擋板位置對歸一化輻照均勻度的影響

    4.2 積分球開口對輻照均勻度的影響
    圖4是基于朗伯特光源、環形遮擋屏位于R5時,積分球開口大小對輻照均勻度的影響。圖4(a)為在開口半徑為積分球半徑的30%時,探測面上平均輻照度的分布圖,為排除出光口邊緣對均勻度的影響,在半徑為75%的圓形區域內對數據進行分析,得出平均輻照均勻度U0為0.975,最大相對偏差Bias為±2.47%。開口半徑為積分球半徑的70%時,平均輻照度由中心向四周衰減,且衰減明顯,致使其均勻度大大低于圖4(a)情況,其U0為0.8999,Bias為±10.7,如圖4(b)所示。




圖4 積分球開口對輻照均勻度的影響
    圖5給出了開口半徑與積分球半徑比(d/1)從5%一直增大到70%的過程中,探測器接收到的輻照均勻度以及平均輻照度變化情況。如圖5(a)所示,積分球開口過小或過大,其歸一化之后的輻照均勻度都會變弱。圖5(b)中,隨著積分球開口不斷變大,平均輻照度不斷減小。故綜合考慮輻射能量與照度均勻性兩個因素,開口比定在30%~35%之間更為合適。


圖5 開口大小
    4.3 光源數量對輻照均勻度的影響
    基于前述研究,選取朗伯特類型光源,選取擋板位置在積分球橫截面(R5)處進行不同光源數量對歸一化輻照均勻度的影響研究。圖6給出在改變等間距分布的光源數量條件下測試平面的輻照均勻度的變化情況。當光源數量為4時,其平均輻照均勻度U0為0.9707,最大相對偏差Bias為±2.46%。當光源數量為16個時,對應的輻照均勻度U0為0.9621,最大相對偏差Bias為±3.38%。當光源數量按2、4、8、12、16個遞增時,輻射能量也會隨之增加,兩者線性相關。


圖6 光源數量對歸一化輻照度的影響
    表2給出了不同光源數量情況下,積分球的歸一化輻照均勻度的詳細參數表,表中可以看出光源數量對積分球光源均勻度的影響較小,輻照的不均勻度(最大相對偏差Bias)隨光源數量在2.46%~3.38%區間內波動。故除了調整LED的輸出功率之外,還可以通過增加光源數量來提升系統的輸出功率。
表2 不同光源數量下積分球平均輻照均勻度

光源數量

U0

U1

U2

最大相對偏差Bias/%

2

0.9707

0.9451

0.9436

±2.82

4

0.9707

0.9521

0.9511

±2.46

8

0.9604

0.9351

0.9334

±3.35

12

0.9671

0.9443

0.9429

±2.87

16

0.9621

0.9436

0.9327

±3.38

    5 結論
    設計了一個具有環形遮擋屏的積分球均勻光源,基于蒙特卡洛算法(MCM)分別對理想光源、朗伯特光源和準直光源這3種光源,5個不同擋板位置的情況,分別搭建模型;對積分球開口直徑(d)占積分球直徑(1)的比值(d/1)為5%、10%到70%等10種情況搭建模型;對2~16個不同光源數量情況搭建模型,并進行了數值模擬。
    結果顯示:1)朗伯特光源較之準直型光源輻照均勻度平均提高2.32%。因此,積分球光源應優先選擇朗伯特光源。2)在擋板位置接近積分球邊緣時,其對應的輻照均勻度略低于其他位置。因此,擋板位置的選擇需要距離內壁邊緣一定距離。3)綜合考慮輻射能量與照度均勻度兩個因素,積分球開口比定在30%~35%區間內更為合適。4)輻射能量與光源數量成線性關系,且不均勻度隨光源數量在2.46%~3.38%波動,故可以通過增加光源數量的方法提高系統功率。優化后的環形遮擋屏結構可以作為輻照均勻的光源,在光學儀器標定、醫學成像等領域中有廣闊的應用前景。




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